Unga med Hodgkin lymfom har låg återfallsrisk
Behandlingen av Hodgkin lymfom är nu så effektiv att unga patienter som inte får återfall inom två år efter avslutad behandling har en förväntad överlevnad som liknar den i befolkningen. Det visar en ny studie i Journal of Clinical Oncology som genomförts av forskare vid Karolinska Institutet i samarbete med forskare vid Aalborgs universitetssjukhus i Danmark och Radiumhospitalet i Oslo.
Hodgkin lymfom är en cancer i lymfsystemet som främst drabbar personer i 20-30-årsåldern. Utan behandling är sjukdomen dödlig, men de allra flesta blir botade. Forskarna bakom den aktuella studien har analyserat data för mer än 2 500 patienter från Sverige, Norge och Danmark i åldrarna 18-49 år för att ta reda på hur stor risken för återfall är.
I dagsläget följs dessa patienter i upp till fem år efter avslutad behandling. Resultaten från studien visar dock att patienterna redan efter två år i snitt har samma överlevnad som individer med samma ålder och kön utan Hodgkin lymfom, och att återfallsrisken är låg, endast cirka 4 procent i snitt.
– Med tanke på den goda överlevnaden och låga återfallsrisken efter två år så skulle kontrollbesök för att upptäcka återfall kunna glesas ut väsentligt efter denna period. Kontroller behövs dock igen i ett senare skede för att hitta och behandla sena biverkningar efter behandlingen, säger Karin Ekström Smedby, forskare vid institutionen för medicin, Solna, Karolinska Institutet och delad sisteförfattare.
Forskningen finansierades av danska och svenska cancerfonden.
Publikation
”Relapse risk and loss of lifetime after modern combined modality treatment for young Hodgkin lymphoma patients: A Nordic Lymphoma EPIDEMIOLOGY Group study”. Jorne Lionel Biccler, Ingrid Glimelius, Sandra Eloranta, Knut B. Smeland, Peter de Nully Brown, Lasse Hjort Jakobsen, Henrik Frederiksen, Mats Jerkeman, Alexander Fosså, Therese M.L. Andersson, Harald Holte, Martin Bøgsted, Tarec Christoffer El-Galaly och Karin E. Smedby.
Journal of Clinical Oncology, online 6 februari 2019, doi: 10.1200/JCO.18.01652.